近日，嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司在ALD粉末鍍膜上取得了重大突破，自主研發(fā)的粉末鍍膜原子層沉積設(shè)備獲得科研用戶一致好評。

　　科民電子研發(fā)的粉末鍍膜設(shè)備為三腔結(jié)構(gòu)，真空腔體內(nèi)部放置一個粉末鍍膜反應(yīng)腔，粉末鍍膜反應(yīng)腔內(nèi)部包含有最多4個獨立的樣品倉，可一次沉積4種不同的粉末品。采用精密的反應(yīng)氣場控制，可以同時在四種不同納米粉末上均勻生長薄膜材料;ALD反應(yīng)所需的前驅(qū)體源通過兩個獨立的進(jìn)氣通道進(jìn)入粉末鍍膜反應(yīng)腔，在經(jīng)過樣品倉后通出。避免了CVD反應(yīng)，氣流帶動粉末在樣品倉內(nèi)進(jìn)行輕微運(yùn)動，使ALD反應(yīng)能在粉末表面順利進(jìn)行。

　　科民電子粉末鍍膜原子層沉積設(shè)備的成功研發(fā)，為催化、環(huán)境、電池材料等領(lǐng)域的用戶提供了可靠的粉體鍍膜方案，為相關(guān)領(lǐng)域用戶取得更多的科研成果及技術(shù)突破提供了新的解決方案。