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科民介紹

COMPANY  PROFILE

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

公司介紹

海外微電子設(shè)備制造團隊與中科院微電子所8室專家共同成立
一家專業(yè)的原子層沉積設(shè)備制造商
4000余平方米的研發(fā)及生產(chǎn)基地
30多人的研發(fā)及制造團隊。

 

生產(chǎn)場地 

符合半導(dǎo)體行業(yè)6S管理規(guī)定的生產(chǎn)場地,標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)
嚴(yán)格的設(shè)備工藝驗證,保證每臺設(shè)備的質(zhì)量

 

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

發(fā)展與規(guī)劃

未來

未來

繼續(xù)
2019年

2019年

單爐5000片2寸片設(shè)備通過產(chǎn)線驗證
2018年

2018年

2017年

2017年

進入某行業(yè)龍頭企業(yè),獲多臺訂單
2016年

2016年

國內(nèi)首家成功進入產(chǎn)業(yè)化市場的ALD設(shè)備廠商
2013年

2013年

助力復(fù)旦成功研制半浮柵晶體管SFGT
2012年

2012年

2010年

2010年

4月 公司成立
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我們的優(yōu)勢

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

廠區(qū)獨立的加工檢測能力

 

生產(chǎn)場地具有進口晶圓測溫儀(用于晶圓表面實際溫度的測量和校準(zhǔn))、進口真空檢漏儀(用于保障整個沉積系統(tǒng)的真空漏率達標(biāo))、swgaelok原裝進口管路連接器(保障前驅(qū)體源輸送的可靠性)

 

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

產(chǎn)線驗證

 

從2015年至2019年,公司設(shè)備為大型半導(dǎo)體/MEMS生產(chǎn)企業(yè)通過產(chǎn)線驗證的ALD機型,穩(wěn)定工作3年以上

 

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

研發(fā)支持

 

中科院微電子所具有千級凈化級別700㎡、百級凈化級別50㎡,并能方便的進行薄膜性能測試

 

ALD技術(shù)

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

1970s-第一階段

ALD的發(fā)明
Suntola提出ALD概念并逐漸完善

 

1980s-1990s-第二階段

ALD的孕育與積累
ALD開始應(yīng)用于TFT等領(lǐng)域獨特的自限制沉積模式優(yōu)勢初顯

 

2000s~至今-第三階段

ALD大規(guī)模應(yīng)用與爆發(fā)
ALD開始應(yīng)用于intel處理器的high-k層并開始大規(guī)模應(yīng)用

應(yīng)用領(lǐng)域不斷拓展

 

能源領(lǐng)域:太陽能電池背面鈍化、光伏活性層、防腐鍍膜、超親水/疏水涂層、防塵涂層、鋰離子電池材料增效
微電子和微機電領(lǐng)域:存儲器件活性層、OLED封裝、納米結(jié)構(gòu)器件、微部件的防腐蝕和抗磨損
光學(xué)應(yīng)用:反射涂層和増透涂層,透鏡保護、光柵器件、曲面鍍膜
其他:膜結(jié)構(gòu)和多孔結(jié)構(gòu)催化活性層、高效貴金屬活性層

 

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

 

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