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科民ALD實現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
- 分類：公司新聞
- 發(fā)布時間：2019-01-10
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【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴散等難點，成功實現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
科民ALD實現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
【概要描述】金屬銥單質(zhì)在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴散等難點，成功實現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
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科民ALD實現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
金屬銥單質(zhì)在光學器件、催化等領域具有廣泛的應用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴散等難點，成功實現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設備
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